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產(chǎn)品分類(lèi)

Product Category

光學(xué)無(wú)源器件

包層光剝離器(CPS) 色散補(bǔ)償模塊及跳線濾波片/濾光片光環(huán)形器其他光學(xué)無(wú)源器件光束整形變形鏡螺旋相位板光衰減器延遲線濾波器/標(biāo)準(zhǔn)具光纖耦合器非線性模塊/倍頻/波長(zhǎng)轉(zhuǎn)換光隔離器/光旋轉(zhuǎn)器/旋轉(zhuǎn)鏡光柵微透鏡陣列色散勻化片偏振器件/偏振測(cè)量調(diào)制反射鏡晶體/棱鏡/窗片透鏡、準(zhǔn)直器分光鏡分束合束器波分復(fù)用

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詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	價(jià)格區(qū)間	面議
組成要素	半導(dǎo)體激光器產(chǎn)品及設(shè)備	產(chǎn)地類(lèi)別	進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域	化工,建材,電子

總覽

Mg:SLN 棱鏡是產(chǎn)生太赫茲的關(guān)鍵器件

用于GaN外延生長(zhǎng)的新型襯底晶體

Mg:SLN 太赫茲摻鎂鈮酸鋰?yán)忡R 大口徑型 (非線性晶體) ,Mg:SLN 太赫茲摻鎂鈮酸鋰?yán)忡R 大口徑型 (非線性晶體)

產(chǎn)品特點(diǎn)

太赫茲生成的簡(jiǎn)單設(shè)置

寬太赫茲帶寬(0.2~2.5 THz)

低缺陷密度

高損傷閾值

通用參數(shù)

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M. Jewariya, M. Nagai, and K. Tanaka, Journal of Optical Society of America B, 26, (9) A101 (2009).

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)型1（基本型）
	尺寸	9 x 9 x 9mm3
	AR涂層	@780-820nm 和@1025-1065nm

標(biāo)準(zhǔn)類(lèi)型 2（高功率）由于剩余功率傾倒在棱鏡外，因此在高平均輸入功率下性能更好。
	尺寸	10 x 10 x 12.5mm3
	AR涂層	@780-820nm 和@1025-1065nm

標(biāo)準(zhǔn)Type3（大口徑）
	尺寸	20 x 20 x 20mm3
	AR涂層	@780-820nm 和@1025-1065nm

詳細(xì)尺寸和規(guī)格

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＜應(yīng)用實(shí)例參考＞

參考 1：M. Nagai、M. Jewariya、Y. Ichikawa、H. Ohtake、T. Sugiura、Y. Uehara 和 K. Tanaka，“通過(guò) χ(2) 級(jí)聯(lián)過(guò)程產(chǎn)生超出激發(fā)帶寬限制的寬帶和高功率太赫茲脈沖在 LiNbO3"，OPT. EXPRESS 18, 11543-11549 (2009).

參考 2：F. Blanchard、X. Ropagnol、H. Hafez、H. Razavipour、M. Bolduc、R. Morandotti、T. Ozaki 和 DG Cooke，“泵浦脈沖整形對(duì)多毫焦耳鈮酸鋰中強(qiáng)太赫茲發(fā)射的影響泵能量"，OPT. LETT. 39, 4333-4336 (2014).

公司簡(jiǎn)介
筱曉(上海)光子技術(shù)有限公司是一家被上海市評(píng)為高新技術(shù)企業(yè)的專(zhuān)業(yè)光學(xué)服務(wù)公司，業(yè)務(wù)涵蓋設(shè)備代理以及項(xiàng)目合作研發(fā)，公司位于大虹橋商務(wù)板塊，擁有接近2000m2的辦公區(qū)域，建有500平*的AOL(Advanced Optical Labs)光學(xué)實(shí)驗(yàn)室，為國(guó)內(nèi)外客戶(hù)提供專(zhuān)業(yè)技術(shù)支持服務(wù)。公司主要經(jīng)營(yíng)光學(xué)元件、激光光學(xué)測(cè)試設(shè)備、以及光學(xué)系統(tǒng)集成業(yè)務(wù)。依托專(zhuān)業(yè)、強(qiáng)大的技術(shù)支持，以及良好的商務(wù)支持團(tuán)隊(duì)，筱曉的業(yè)務(wù)范圍正在逐年增長(zhǎng)。目前業(yè)務(wù)覆蓋國(guó)內(nèi)外各著名高校、頂級(jí)科研機(jī)構(gòu)及相關(guān)領(lǐng)域等諸多企事業(yè)單位。筱曉擁有一支核心的管理團(tuán)隊(duì)以及專(zhuān)業(yè)的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室，奠定了我們?cè)谠O(shè)備的拓展應(yīng)用及自主研發(fā)領(lǐng)域堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。
主要經(jīng)營(yíng)
激光器/光源
半導(dǎo)體激光器（DFB激光器、SLD激光器、量子級(jí)聯(lián)激光器、FP激光器、VCSEL激光器）
氣體激光器（HENE激光器、氬離子激光器、氦鎘激光器）
光纖激光器（連續(xù)激光器、超短脈沖激光器）
光學(xué)元件
光纖光柵濾波器、光纖放大器、光學(xué)晶體、光纖隔離器/環(huán)形器、脈沖驅(qū)動(dòng)板、光纖耦合器、氣體吸收池、光纖準(zhǔn)直器、光接收組件、激光控制驅(qū)動(dòng)器等各種無(wú)源器件
激光分析設(shè)備
高精度光譜分析儀、自相關(guān)儀、偏振分析儀，激光波長(zhǎng)計(jì)、紅外相機(jī)、光束質(zhì)量分析儀、紅外觀察鏡等
光纖處理設(shè)備
光纖拉錐機(jī)、裸光纖研磨機(jī) 。